與傳統硅芯片相比,單片集成 GaN 功率 IC 具有顯著優勢,包括卓越的效率、更小的尺寸、更高的速度和更低的成本。GaN 的特別之處在于其天然特性,例如更高的臨界電場、更低的導通電阻和更小的寄生電容。半導體工程師現在正在采用一種稱為單片集成的智能方法,該方法涉及將所有電路組件構建在單個芯片上,而不是連接單獨的部件。工程師通常在稱為硅基氮化鎵或 SOI 基氮化鎵晶圓的專用平臺上構建這些系統,這些平臺是構建在其之上的其他一切的基礎。圖 1.GaN功率IC的單片集成方法:(a)從供體晶圓到最終金屬柵極形成的完整
幾十年來,硅一直是電力電子領域無可爭議的領導者。但隨著硅達到其性能極限,氮化鎵 (GaN) 功率器件正在取得進展。憑借更快的開關速度和更高的效率,氮化鎵已經在消費類快速充電器中發揮了重大作用,與硅相比,實現了系統級成本、空間和功耗節省。然而,盡管具有所有功率處理特性,但基于氮化鎵的橫向高電子遷移率晶體管 (HEMT) 一直在努力進入千瓦級功率設計。瑞薩電子正試圖通過其最新的高壓氮化鎵功率 FET 來改變這一現狀,該 FET 專為要求苛刻的系統而設計,從數據中心的 AI 服務器電源和不間斷電源 (
隨著全球對能源可持續性與安全性的關注升溫,住宅太陽能儲能系統需求持續攀升。當前市場上,2kW級微型逆變器已實現集成儲能功能,而更高功率場景則需依賴串式逆變器或混合串式逆變器。本文聚焦基于TI GaN FET的10kW單相串式逆變器設計,探討其技術優勢與核心設計要點,為住宅太陽能應用提供高能效、高密度的解決方案參考。混合串式逆變器架構:從模塊到系統典型的混合串式逆變器通過穩壓直流母線互聯各功能模塊(圖1),核心子系統包括:●單向DC/DC轉換器:執行光伏最大功率點跟蹤(MPPT),優化能量捕獲;●雙向DC/
隨著對 GaN 半導體的需求持續增長,Infineon Technologies AG 已準備好利用這一趨勢,鞏固其作為 GaN 市場領先集成器件制造商 (IDM) 的地位。今天,該公司宣布其在 300 毫米晶圓上的可擴展 GaN 制造正在按計劃進行。隨著 2025 年第四季度向客戶提供第一批樣品,該公司已做好充分準備來擴大其客戶群并鞏固其作為領先 GaN 巨頭的地位。作為電力系統的領導者,該公司掌握了所有三種相關材料:Si、SiC 和 GaN。GaN 半導體具有更高的功率密度、更快的開關速度和更低的功率
雖然臺積電計劃到 2027 年退出氮化鎵 (GaN) 晶圓代工業務,但行業巨頭英飛凌正在加大努力,這標志著 GaN 領域的重大轉變。哪些因素可能推動了這些不同的策略?根據《科創板日報》的報道,中國英諾賽科董事會主席羅偉偉解釋說,氮化鎵晶圓生產可能不太適合傳統的代工模式。為什么 GaN 不適合代工模型正如報告中所引用的,Luo 解釋說,傳統的功率半導體器件結構相對簡單,不會對代工服務產生強勁的需求。特別是對于 GaN 功率器件,這種模型沒有提供足夠的投資回報 (ROI),并且缺乏代工廠與其客戶之間通常看到的
全球半導體解決方案供應商瑞薩電子(TSE:6723)今日宣布推出三款新型高壓650V GaN FET——TP65H030G4PRS、TP65H030G4PWS和TP65H030G4PQS,適用于人工智能(AI)數據中心和服務器電源(包括新型800V高壓直流架構)、電動汽車充電、不間斷電源電池備份設備、電池儲能和太陽能逆變器。此類第四代增強型(Gen IV Plus)產品專為多千瓦級應用設計,將高效GaN技術與硅基兼容柵極驅動輸入相結合,顯著降低開關功率損耗,同時保留硅基FET的操作簡便性。新產品提供TOL